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portada Abscheidung und Anwendungen von Niedrigtemperatur-AlN-Dünnschichten (en Alemán)
Formato
Libro Físico
Editorial
Autor
Idioma
Alemán
N° páginas
204
Encuadernación
Tapa Blanda
Dimensiones
22.9 x 15.2 x 1.2 cm
ISBN13
9786209691430

Abscheidung und Anwendungen von Niedrigtemperatur-AlN-Dünnschichten (en Alemán)

Liu, Sanjie; Zheng, Xinhe (Autor) · Verlag Unser Wissen · Tapa Blanda

Abscheidung und Anwendungen von Niedrigtemperatur-AlN-Dünnschichten (en Alemán) - Liu, Sanjie; Zheng, Xinhe

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Reseña del libro "Abscheidung und Anwendungen von Niedrigtemperatur-AlN-Dünnschichten (en Alemán)"

Dieses Buch ist eine spezialisierte Monografie, die die Abscheidung und Anwendung von hochwertigen Aluminiumnitrid (AlN)-Dünnschichten untersucht, die bei niedrigen Temperaturen mittels plasmaunterstützter Atomlagenabscheidung (PEALD) gewachsen sind. Es beschreibt detailliert, wie PEALD die Einschränkungen herkömmlicher Hochtemperaturmethoden überwindet und das Wachstum von kristallinem AlN mit scharfen Grenzflächen und ausgezeichneter Gleichmä igkeit auf temperaturempfindlichen Substraten wie Silizium und GaAs ermöglicht. Das Buch präsentiert systematisch die Forschung der Autoren und deckt Prozessoptimierung, Grenzflächentechnik sowie die grundlegende Beziehung zwischen Abscheidungsparametern und Schichteigenschaften ab. Darüber hinaus hebt es die funktionelle Anwendung dieser Schichten in Spitzenfeldern hervor und demonstriert ihre Rolle als Passivierungs- und Grenzflächenmodifikationsschichten zur signifikanten Steigerung der Leistung von nanophotonischen Emitter-Arrays und quantenpunkt-sensibilisierten Solarzellen. Insgesamt bietet es einen umfassenden Leitfaden von den materialwissenschaftlichen Grundlagen bis hin zur Integration fortschrittlicher optoelektronischer und energetischer Bauelemente.

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